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光學薄膜測厚儀的核心技術介紹和原理說明
更新時間 2022-04-01 10:55:25 閱讀 50
光學薄膜測厚儀的特點是非接觸, 非破壞方式測量,無需樣品的前處理,軟件支持Windows操作系統等。光學薄膜測厚儀是使用可視光測量晶圓、玻璃等基材上形成的氧化膜,氮化膜,光致抗蝕劑等非金屬薄膜厚度的儀器。
測量原理如下:在測量的wafer或glass上面的薄膜上垂直照射可視光,這時光的一部分在膜的表面反射,另一部分透進薄膜,然后在膜與底層 (晶圓或玻璃)之間的界面反射。這時薄膜表面反射的光和薄膜底部反射的光產生干涉現象。光學薄膜測厚儀就是利用這種干涉現象來測量薄膜厚度的儀器。
儀器的光源使用鎢絲燈,波長范圍是400 nm~800 nm。從ST2000到ST7000使用這種原理,測量面積的直徑大小是4μm ~ 40μm (2μm ~ 20μm optional)。ST8000-Map作為K-MAC (株) 最主要的產品之一,有影像處理的功能,是超越一般薄膜厚度測量儀器的新概念上的厚度測量儀器。測量面積的zui小直徑為0.2μm,遠超過一般厚度測量儀器的測量jixian (4μm)。順次測量數十個點才能得到的厚度地圖也可一次測量得到,使速度和精確度都大大提高。
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